高纯陶瓷化合物溅射靶材（3N-4N）：ITO靶、AZO靶、IGZO靶、氧化镁靶MGO、氧化钇靶Y2O3、氧化铁靶Fe2O3、氧化镍靶Ni2O3、氧化铬靶Cr2O3、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5等高密度陶瓷溅射靶材。 

备注：众诚新材生产的陶瓷靶材采用先进的陶瓷生产工艺；惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99％，可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。